頰黏膜腫瘤以9 MeV電子射束體外照射治療，若臉頰腫瘤厚度為 3 cm，為避免對側口腔黏膜接受照射而使用鉛作為內屏蔽，若欲降低回散射至原來的10%以下，則應在此內屏蔽與組織介面至少添加多少 cm 的等組織材料？（參考下圖作答）

這是一道關於放射治療中電子射束物理特性與內屏蔽（Internal Shielding）設計的經典計算與查圖題。以下為您詳細解析：

本題觀念：

本題測驗的是電子射束在放射治療中，遇到高原子序（High-Z）屏蔽物質（如鉛）時產生的電子回散射（Electron backscatter）效應。為了避免高劑量的回散射電子對正常組織造成傷害，臨床上會利用低原子序的等組織材料（tissue-equivalent material 或 bolus）作為吸收層，放置在組織與鉛屏蔽之間以吸收回散射電子。

影像分析：

題目提供了一張「相對回散射強度（Relative backscatter intensity）」與「逆流深度（Depth 'up-stream'，單位為 mm）」的關係圖。

1. Y軸代表回散射強度佔表面最大回散射強度的比例（例如：1.0 即為 100%，0.1 即為 10%）。
2. X軸代表在鉛屏蔽前方（即電子射束入射的逆向/上游方向）所添加的等組織材料厚度，單位為毫米（mm）。
3. 圖中有多條曲線，分別對應到達屏蔽物質介面時的不同電子射束平均能量（1 MeV、3 MeV、6 MeV、10 MeV 以及 14-25 MeV）。

選項分析：

首先，我們必須計算電子射束穿透腫瘤後，到達鉛屏蔽（內屏蔽）時的剩餘能量：

• 體表

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