在氫核磁共振光譜中，下列何者的甲基化學位移最大？

本題觀念：

在氫核磁共振光譜（$^1$H NMR）中，化學位移（chemical shift, δ，單位ppm）反映質子所受到的屏蔽（shielding）或去屏蔽（deshielding）程度。影響化學位移的主要因素之一是相鄰基團的電負度（electronegativity）。本題比較鹵甲烷（methyl halides）系列中甲基質子的化學位移。

選項分析

電負度（Pauling scale）：F（4.0）> Cl（3.1）> Br（2.8）> I（2.5）

電負度越高的鹵素，越能拉走相鄰碳上的電子雲，使甲基質子去屏蔽（deshielded）→ 化學位移 δ 值越大（往低場移動）。

各鹵甲烷甲基質子的實測化學位移（δ/ppm）：

化合物	鹵素電負度	δ (ppm)
$\text{CH}_3\text{F}$	4.0	4.26
$\text{CH}_3\text{Cl}$	3.1	3.05
$\text{CH}_3\text{Br}$	2.8	2.68
$\text{CH}_3\text{I}$	2.5	2.16

(A) CH₃F ✅（正確答案） 氟的電負度最高（4.0），對甲基質子去屏蔽效果最強

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