有關⾜跟效應（ heel effect ）在乳房攝影之應⽤，下列敘述何者正確？

本題觀念：

足跟效應（heel effect）在乳房攝影（mammography）中的應用原理，以及如何透過 X 光管方向與射源至影像接收器距離（source-to-image receptor distance, SID）的選擇，達到最佳影像均勻性。

選項分析

(A) 靠近乳頭側之輻射強度須高於胸壁 錯誤。足跟效應使陽極（anode）側輻射強度低於陰極（cathode）側。乳房靠近胸壁（chest wall）側較厚，需要較高的 X 光強度穿透；靠近乳頭側較薄，需要較低強度。因此應讓陰極側對應胸壁，提供較高輻射強度，而不是讓乳頭側強度較高。

(B) 將 X 光管陽極擺放於靠近胸壁側 錯誤。正確做法恰好相反：應將**陰極（cathode）**擺放於靠近胸壁側，因為陰極側輻射強度較高，可補償胸壁側較厚的乳腺組織，使整體曝光更均勻。

(C) 增加射源至影像接收器距離（SID），並將 X 光管傾斜陰極擺向胸壁 正確。有兩個要點：

1. 陰極擺向胸壁：陰極側輻射強度較高，對應較厚的胸壁組織，補償厚度差異。
2. 增加 SID：較大的 SID 可降低足跟效應在影像面的明顯程度（因為相同大小影像接受器所涵蓋的角度範圍變小），同時也能減少放大失真。乳房攝影機標準 SID 約 65–70 cm，正是兼顧足跟效應與解析度的

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