下列那些攝影部位不宜使⽤ AEC （automatic exposure control ）？ ①zygomatic arch SMV ②Rhese method ③nasal bone lateral position

本題觀念：

自動曝光控制（automatic exposure control, AEC）依賴電離腔（ionization chamber）偵測到達接收器的 X 光量後自動終止曝光。若解剖部位極小、影像密度極低、或解剖結構無法覆蓋電離腔，AEC 便不適合使用。本題考查哪些攝影技術不宜使用 AEC。

選項分析

逐一分析三個攝影技術：

① Zygomatic arch SMV（顴骨弓頦頂位，submentovertex projection） SMV 是用於展示顴骨弓的特殊投影，X 光束需穿過整個頭部，路徑長且密度高，電離腔可以正常感測足夠的射線量。AEC 通常可以使用，屬可接受的 AEC 應用範圍。

② Rhese method（Rhese 法，視神經孔攝影，optic foramen/parieto-orbital projection） Rhese method 是針對視神經孔（optic foramen）的小面積特殊攝影，投影的目標結構極小（約 5–7 mm）。AEC 電離腔面積遠大於視神經孔，電離腔實際感測到的是周邊眼眶骨等其他組織的衰減，而非目標區域，導致曝光判斷不準確。因此，教科書明確指出 Rhese method 不宜使用 AEC，應採用手動設定。

**③ Nasal bone lateral position（

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