下列有關 X光機電源裝置之敘述，何者錯誤？

本題觀念：

本題為反向題（問「何者錯誤」），考查 X 光機高壓電源裝置的整流（rectification）與電源類型（單相/三相）的特性，包括百分漣波（ripple percentage）、X 光產率、曝光時間等概念。

選項分析

(A) 全波整流所需之曝光時間為半波整流的一半 ✅ 正確陳述

• 半波整流（half-wave rectification）：每個交流週期（60 Hz = 1/60 秒）只有正半週能產生 X 光，每秒可用脈衝數為 60 次
• 全波整流（full-wave rectification）：正、負半週均被轉換為正向電壓，每秒可用脈衝數為 120 次（為半波的兩倍）
• 因此，全波整流的有效工作時間是半波整流的兩倍，在相同 mAs 下所需曝光時間約為半波整流的 1/2
• 此陳述正確 ✅

(B) 三相電源（three-phase power）較單相電源（single-phase power）有較高之 X 光產率 ✅ 正確陳述

• 三相電源的三個相位交錯，使電壓在任何時刻都不會降至零，有效電壓（effective voltage）更高
• 在相同標稱 kVp 下，三相電源的平均管電壓遠高於單相電源，因此能產生更多 X 光光子
• 三相電源的 X 光產率（X-ray output）約為單相電源的 1.35–1.4

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