在 的氫核磁共振光譜中， X為下列何者時，其對位氫核的化學位移最大？

本題觀念：

本題考的是苯環取代基對芳香氫化學位移（chemical shift）的影響，核心概念為取代基的電子效應（吸電子 vs. 給電子）對芳香環質子遮蔽效應（shielding/deshielding）的影響。

影像分析：

圖片顯示一個**對位取代苯環（para-disubstituted benzene）**的結構，苯環一端（左側）為 H（氫），另一端（右側）為 X（待確認取代基）。題目問的是：當 X 為何種基團時，對位氫（para-H）的化學位移最大（即最偏向低場，downfield）？

此苯環結構即代表 4-X-苯基（H 在 4 號位，X 在 1 號位）。所謂「對位氫核」即為圖中左側的 H 原子（位於 X 取代基的對位）。

選項分析

評估各取代基對對位氫的化學位移影響：

(A) $\text{CH}_3$（甲基） 甲基為給電子基（electron-donating group, EDG），透過超共軛效應（hyperconjugation）提供電子密度至苯環。對位氫因電子密度增加而受到屏蔽（shielding），化學位移往高場移動（upfield），δ 約 7.1–7.2 ppm。❌ 不是最大。

(B) $\text{Cl}$（氯） 氯為中等吸電子基（誘導效應 > 共振給電子）。透過

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