下列有關 X光發射能譜影響因子與 X光的質與量之敘述，何者錯誤？

本題觀念：

X 光發射能譜的「量（quantity）」指光束中光子的數量（即能譜曲線下的面積），「質（quality）」指光束的平均能量（即光子的穿透力）。管電流（mA）、管電壓（kVp）、附加濾片與電壓漣波（voltage ripple）對量與質的影響各不相同，是放射師考試的核心基礎知識。

選項分析

(A) 管電流（mA）增加，X 光的量和質皆上升 ❌（此為錯誤陳述 = 正確答案） 管電流增加只影響單位時間內撞擊陽極靶材的電子數量，不改變電子的能量。因此 mA 增加僅使 X 光的量成比例上升，而 X 光的質（平均光子能量）維持不變。這是管電流最重要的特性：只影響量，不影響質。

(B) 管電壓（kVp）增加，X 光的量和質皆上升 ✅（此為正確陳述） kVp 同時影響量與質：提高 kVp 使電子加速度更大，撞擊靶材時產生的特性輻射（characteristic radiation）能量上升，制動輻射（bremsstrahlung）的最大能量（$E_{max} = eV$）也上升，整條能譜曲線向右移動（質上升）且面積增大（量上升）。

(C) 使用附加濾片，X 光的量下降，質上升 ✅（此為正確陳述） 附加濾片（added filtration）優先吸收能量較低的光子，使低能光子被移除。結果：光子總數減少（量下

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