有一臺 X光機，固定濾片厚度為 0.5 mm 鋁，外加濾片厚度為 2.0 mm 鋁。已知攝影參數如下圖所示， X光源至攝像距離 110 cm 處，其X光射束品質（ beam quality ）的半值層厚度為 3.6 mm 鋁，測得曝露為 300 mGy ，若所有攝像條件不變下，降低曝露為 150 mGy 時，則須另加鋁濾片的厚度為何？

本題觀念：

本題考半值層（half-value layer, HVL）的概念與計算，以及增加鋁濾片（aluminum filtration）降低 X 光曝露量的應用。HVL 定義為使 X 光強度（曝露量）降低為原來 50% 所需的吸收材料厚度，在診斷放射線學中通常以毫米鋁（mm Al）表示。

影像分析：

圖中為 X 光機的數位控制面板顯示幕，顯示目前攝影參數：

• 管電壓（kVp）：81 kV
• 毫安秒（mAs）：100 mAs
• 曝光時間（ms）：176 ms

這些是本題題目中固定不變的攝影條件（kVp、mAs 不變，改變濾片厚度來調整曝露量）。面板為典型的現代數位 X 光機操控介面，具有減號（-）和加號（+）按鈕分別調整各參數。

選項分析

計算邏輯：

已知條件：

• 固定濾片：0.5 mm Al
• 原有外加濾片：2.0 mm Al
• 原總濾片：0.5 + 2.0 = 2.5 mm Al
• HVL = 3.6 mm Al（在 81 kVp、110 cm 處測得）
• 原曝露：300 mGy → 目標曝露：150 mGy

曝露降低一半（300 → 150 mGy）= 降低至原來的 1/2 = 增加 1 個 HVL 的濾片

根據 HVL 定義：增加 **1 HVL =

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