以電子射束治療眼瞼（ eyelid ）病灶時，如何減少置放於眼球與眼瞼間的鉛遮擋塊（ internal eye shield ）所引起的電子回散射劑量？

本題觀念：

以電子射束（electron beam）治療眼瞼（eyelid）腫瘤時，通常會在眼瞼與眼球之間置放內部鉛遮擋塊（internal eye shield）保護眼球（水晶體、角膜）。然而，高原子序（high atomic number, high-Z）的鉛或鎢遮擋塊會產生電子回散射（electron backscatter），使貼近遮擋塊的上方組織（眼瞼內側面）接受額外的劑量增強（dose enhancement）。減少這種回散射劑量的關鍵方法，是在遮擋塊朝向射束入射方向（上表面）覆蓋一層低原子序（low-Z）物質。

選項分析

(A) 縮小治療照野 縮小照野可減少總照射面積，但無法消除已存在的遮擋塊表面電子回散射效應。回散射是由高 Z 材料與入射電子相互作用產生的，與照野大小無直接關係，因此縮小照野無法有效降低回散射劑量。

(B) 增加鉛的厚度 增加鉛的厚度主要目的是增強對電子的阻止能力（beam attenuation），以確保眼球受到充分保護。但更厚的鉛同樣會產生回散射；電子回散射主要來自高 Z 材料的表面效應，增加厚度並不能有效減少回散射劑量（事實上，厚度增加對回散射量影響有限）。

(C) 於電子錐筒處（electron cone）外加鉛遮擋塊 在電子錐筒外加鉛遮擋塊的目的是修整照野形狀（

...（解析預覽）...